Способ отбора полупроводниковых приборов повышенной надежности

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых приборов (ПП), и может быть использовано для отбора из партии ПП повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной промышленности. Технический результат: повышение достоверности и расширение функциональных возможностей. Сущность: проводят измерения m-характеристик в диапазоне прямого тока (1-100 мА) до и после пропускания импульса тока, с амплитудой в 1,5-3 раза превышающее максимально допустимую по ТУ. Отбор приборов повышенной надежности проводят на основании критерия , где mимп - максимальное значение параметра m после воздействия импульса тока, mисх - максимальное значение параметра m в исходном состоянии. Величину А устанавливают на основе статистики на представительной выборке для каждого типа приборов. 1 табл.

 

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых приборов (диодов и транзисторов), и может быть использовано для выделения из партии полупроводниковых приборов повышенной надежности с высоким уровнем достоверности как в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры.

Известен способ контроля качества полупроводниковых приборов с помощью m-характеристик [1], в котором критерий потенциальной надежности приборов имеет значение

1≤m≤2,

т.е. полупроводниковые приборы с данной величиной m-характеристики будут соответствовать по надежности требованиям ТУ.

Недостатком данного способа является невозможность отбора группы приборов с повышенной относительно требований ТУ надежностью. Изобретение направлено на повышение достоверности и расширение функциональных возможностей диагностических способов.

Это достигается тем, что m-характеристики полупроводниковых приборов измеряют в диапазоне прямого тока (1-100 мА) до и после пропускания импульса тока с амплитудой в 1,5-3 раза больше максимально допустимого по ТУ.

По набору статистики на представительной выборке для каждого типа прибора определяется единый критерий для отношения максимальных значений m-характеристик до и после пропускания импульса тока, т.е.

,

где величина А устанавливается на основе статистики.

Способ осуществляется следующим образом. Измеряют m-характеристику p-n переходов выборки приборов в диапазоне прямого тока (1-100 мА) в исходном состоянии. Затем на приборы осуществляют воздействие импульса тока с амплитудой в 1,5-3 раза больше максимально допустимой на переходы база-коллектор и база-эмиттер. Длительность импульса подбирают экспериментально на представительной выборке путем последовательного увеличения с шагом 0,1 с до тех пор, пока не наблюдают отклонение значений параметра m от исходных. Для данного типа приборов длительность импульса составила 0,5 с. После этого производят повторные измерения m-характеристики после воздействия импульса тока и составляют таблицу максимальных значений параметра m. По набору статистики на представительной выборке для каждого типа прибора определяется единый критерии для отношения максимальных значений m-характеристик .

Предложенная методика разделения была апробирована на транзисторах КТ503Б (маломощных кремниевых транзисторах n-p-n-типа).

Максимальные значения измеренных m-характеристик до и после пропускания импульса тока представлены в таблице.

№ прибораМаксимальные значения m-характеристик
Исходное состояниеСостояние после воздействия импульса тока
11,311,371,045
21,321,321,000
31,341,341,000
41,341,491,112
51,271,321,039
61,311,311,000
71,381,41,014
81,281,381,078
91,411,481,049
101,331,461,098

Если принять критерий для m-характеристик в случае транзисторов КТ503Б: А=1, то транзисторы №2, 3, 6 будут иметь повышенную надежность.

Источник информации

1. ОСТ 11073.043-75. Приборы полупроводниковые и микросхемы интегральные. Метод контроля качества с помощью m-характеристик.

Способ отбора полупроводниковых приборов повышенной надежности с использованием m-характеристик, измеренных в диапазоне прямого тока 1-100 мА, отличающийся тем, что измерение проводят до и после пропускания импульса тока с амплитудой, в 1,5-3 раза превышающего максимально допустимую по ТУ, а отбор приборов повышенной надежности проводят на основании критерия , где mимп - максимальное значение параметра m после воздействия импульса тока, mисх - максимальное значение параметра m в исходном состоянии, величину А устанавливают на основе статистики на представительной выборке для каждого типа приборов.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к устройствам для контроля экспоненциальных вольт-амперных характеристик (ВАХ), и может быть использовано для регистрации коэффициента неидеальности полупроводниковых изделий (ППИ), т.е.

Изобретение относится к испытательной технике и может быть использовано при контроле микросхем и полупроводниковых приборов. .

Изобретение относится к технике контроля полупроводников. .

Изобретение относится к области оптических информационных технологий, в частности к методам диагностики динамических параметров лазеров, используемых в волоконно-оптических линиях связи и определяющих скорость передачи импульсно-кодовой информации.

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к технике измерения параметров полупроводниковых приборов. .
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способу повышения надежности партий полупроводниковых изделий (ППИ) в процессе серийного производства. .

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам разделения партии интегральных схем (ИС) на надежные и потенциально ненадежные схемы. .
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к контролю полупроводниковых приборов. .

Изобретение относится к испытательной технике и может быть использовано для оценки технологии производства изделий электронной техники, например интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, и на входном контроле приборостроительных предприятий

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано в технологии изготовления полупроводниковых изделий (ППИ), а также для анализа изделий, отказавших у потребителя

Изобретение относится к электроизмерительной технике, в частности к устройствам для измерения параметров фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) энергии светового излучения в электрическую, и предназначено для автоматизированного контроля солнечных элементов (СЭ), генераторов тока (ГТ) и батарей фотоэлектрических (БФ) при освещении их импульсным ксеноновым излучателем на заводе-изготовителе и в эксплуатирующих организациях
Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано для испытаний и отбраковки полупроводниковых изделий в процессе их изготовления и эксплуатации

Изобретение относится к области электронной техники, в частности предназначено для разбраковки КМОП микросхем, изготовленных на КНД структурах, по радиационной стойкости

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации интегральных схем (ИС), и может быть использовано для выделения из партии ИС повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры
Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации транзисторов, и может быть использовано для выделения транзисторов повышенной надежности из партии в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых изделий (диодов, транзисторов, интегральных схем), и может быть использовано для разделения изделий по надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области испытаний изделий электронной техники и может быть использовано для оценки качества и надежности изделий микро- и наноэлектроники, применяемых в аппаратуре с длительными сроками эксплуатации
Наверх