Способ отбраковки полупроводниковых изделий

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано для испытаний и отбраковки полупроводниковых изделий в процессе их изготовления и эксплуатации. Сущность изобретения: отбраковка полупроводниковых изделий, включающая измерение диагностических характеристик (вольт-амперных характеристик, вольт-фарадных характеристик, ампер-шумовых характеристик, низкочастотного шума, критического напряжения питания, обратных токов p-n переходов и др.), воздействия на полупроводниковые изделия высокочастотным электромагнитным полем, отличается тем, что измерение диагностических характеристик проводят до и сразу после воздействия высокочастотным электромагнитным полем и по их отличию до и после воздействия выявляют менее стабильные полупроводниковые изделия.

 

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано для испытаний и отбраковки полупроводниковых изделий в процессе их изготовления и эксплуатации.

Известны способы отбраковки полупроводниковых изделий, включающие измерение электрических параметров испытуемых изделий и разбраковку по ним изделий на годные и дефектные [1-3].

Известные способы предполагают проведение перед операцией измерения электрических параметров изделий их термотренировку, т.е.одновременное воздействие на испытуемые изделия высокой температурой и созданием на них определенного электрического режима.

В одном из известных способов [2] температура создается путем нагрева испытуемых изделий электрическими импульсами заданной величины и формы, подаваемыми на внутреннее омическое сопротивление изделия.

Недостатками известных способов является невозможность проведения отбраковки на ранних стадиях технологического процесса изготовления полупроводниковых изделий, т.к. проведение электротермотренировки возможно только после монтажа изделий в корпус, т.е. на конечном этапе их изготовления. При этом на сборку потенциально ненадежных, в конечном итоге отбраковываемых изделий, затрачиваются дополнительные материалы и время, что увеличивает стоимость выпускаемых изделий.

Наиболее близким способом является способ, предлагаемый в [4]. Полупроводниковые пластины после формирования на них структур полупроводниковых изделий до скрайбирования на кристаллы помещают в высокочастотное электромагнитное поле, создаваемое генератором. За счет воздействия вихревых токов, возникающих в структуре проводящих элементов изделий, создается повышенная температура. Кроме того, воздействие электромагнитного поля вызывает генерацию носителей зарядов в различных областях структуры, их накопление, интенсифицирует комбинационные процессы, вызывает протекание неуправляемых токов и т.п., что эквивалентно созданию интенсивной электрической нагрузки практически всех элементов изделия. Недостатком способа является небольшая достоверность.

Цель изобретения - повышение эффективности отбраковки полупроводниковых изделий с использованием нагрева высокочастотным полем.

Поставленная цель достигается тем, что в зависимости от типа полупроводникового изделия проводят измерение диагностических характеристик, таких как вольт-амперные характеристики, вольт-фарадные характеристики, ампер-шумовые характеристики, низкочастотный шум, критическое напряжение питания, обратные токи p-n переходов и др., дважды до и после воздействия высокочастотным электромагнитным полем.

Сущность изобретения: отбраковка полупроводниковых изделий, включающая измерение диагностических характеристик (вольт-амперных характеристик, вольт-фарадных характеристик, ампер-шумовых характеристик, низкочастотного шума, критического напряжения питания, обратных токов p-n переходов и др.), воздействия на полупроводниковые изделия высокочастотным электромагнитным полем, отличается тем, что измерение диагностических характеристик проводят до и сразу после воздействия высокочастотным электромагнитным полем и по их отличию до и после воздействия выявляют менее стабильные полупроводниковые изделия.

Частоту электромагнитного поля выбирают в пределах 104-106 Гц. Для интегральных схем с целью обеспечения более равномерного нагрева всех элементов целесообразно подвергать изделия воздействию нескольких частот одновременно. Параметры высокочастотной обработки изделий (частоту, мощность электромагнитных колебаний продолжительность выдержки изделий) определяют экспериментально на контрольной партии изделий.

Источники информации

1. Интегральные схемы. Основы проектирования и технология. Пер. с англ. Под ред. К.И.Мартюшова. М., Сов. Радио, 1970, с.119, 131-134.

2. Авторское свидетельство СССР №286313, кл. G01R 31/26, 1970.

3. Чернышев А.А. и др. Отбраковочные испытания полупроводниковых приборов и ИС. "Зарубежная электронная техника", вып.7 (153), М., ЦНИИ "Электроника" 1977, с. 15-21.

4. Авторское свидетельство СССР №871104, кл. G01R 31/26, 1981.

Способ отбраковки полупроводниковых изделий, включающий измерение диагностических характеристик (вольт-амперных характеристик, вольт-фарадных характеристик, ампер-шумовых характеристик, низкочастотного шума, критического напряжение питания, обратных токов p-n переходов и др.), воздействия на полупроводниковые изделия высокочастотным электромагнитным полем, отличающийся тем, что измерение диагностических характеристик производят до и сразу после воздействия высокочастотным электромагнитным полем и по их отличию до и после воздействия выявляют менее стабильные полупроводниковые изделия.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к электроизмерительной технике, в частности к устройствам для измерения параметров фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) энергии светового излучения в электрическую, и предназначено для автоматизированного контроля солнечных элементов (СЭ), генераторов тока (ГТ) и батарей фотоэлектрических (БФ) при освещении их импульсным ксеноновым излучателем на заводе-изготовителе и в эксплуатирующих организациях.

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано в технологии изготовления полупроводниковых изделий (ППИ), а также для анализа изделий, отказавших у потребителя.

Изобретение относится к испытательной технике и может быть использовано для оценки технологии производства изделий электронной техники, например интегральных микросхем и полупроводниковых приборов, и на входном контроле приборостроительных предприятий.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых приборов (ПП), и может быть использовано для отбора из партии ПП повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной промышленности.

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к устройствам для контроля экспоненциальных вольт-амперных характеристик (ВАХ), и может быть использовано для регистрации коэффициента неидеальности полупроводниковых изделий (ППИ), т.е.

Изобретение относится к испытательной технике и может быть использовано при контроле микросхем и полупроводниковых приборов. .

Изобретение относится к технике контроля полупроводников. .

Изобретение относится к области оптических информационных технологий, в частности к методам диагностики динамических параметров лазеров, используемых в волоконно-оптических линиях связи и определяющих скорость передачи импульсно-кодовой информации.

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к технике измерения параметров полупроводниковых приборов. .
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способу повышения надежности партий полупроводниковых изделий (ППИ) в процессе серийного производства. .

Изобретение относится к области электронной техники, в частности предназначено для разбраковки КМОП микросхем, изготовленных на КНД структурах, по радиационной стойкости

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации интегральных схем (ИС), и может быть использовано для выделения из партии ИС повышенной надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры
Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации транзисторов, и может быть использовано для выделения транзисторов повышенной надежности из партии в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых изделий (диодов, транзисторов, интегральных схем), и может быть использовано для разделения изделий по надежности в процессе производства, а также на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры

Изобретение относится к области испытаний изделий электронной техники и может быть использовано для оценки качества и надежности изделий микро- и наноэлектроники, применяемых в аппаратуре с длительными сроками эксплуатации
Изобретение относится к области электротехники, в частности к производству и эксплуатации полупроводниковых изделий (ППИ), и может быть использовано для отбраковки из партии полупроводниковых изделий, менее стойких к электростатическим разрядам
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам обеспечения качества и надежности полупроводниковых приборов, и может быть использовано для сравнительной оценки надежности партий полупроводниковых приборов как на этапе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры
Изобретение относится к области контроля и может быть использовано для ускоренного контроля качества изготовления полупроводниковых приборов химическим способом, в частности диэлектрических пленок резистивных компонентов гибридных интегральных схем
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам обеспечения качества и надежности интегральных схем (ИС), и может быть использовано для сравнительной оценки надежности партий ИС как на этапе производства, так и на входном контроле на предприятиях-изготовителях радиоэлектронной аппаратуры
Наверх